某半导电源芯片生产制作加工厂在晶圆制作加工流程中，应用硅烷参与硅本质生长的，废气排放洗滌塔引起高溶液浓度含硅废气。废气兼备pH振幅大（2-11）、硅含水量高的亮点，传统与现代补救办法易存在硅垢短路相关问题。 生产废水材料及來源 电镀废水具体含量为： 溶于性硅酸盐 ：SiO₂含量达1000-1500mg/L 硫酸钠/氢氧化反应钠 ：干洗塔酸性干洗液杂质 颗粒物硅 ：纳米级级SiO₂电解质溶液 痕量砷 ：材料沉淀物带往 办理施工工艺方法 科技创新进行"有级与+膜滤出+挥发心得"生产工艺： 1阶段结合 ：用CaO调低pH至4-5，自动生成硅酸钙沉淀物，硅出掉率60%。 一级采和 ：加Na₂CO₃将pH增强至9，进几步奠定剩余时间硅，串并联用镁剂除砷。 超滤膜控制系统 ：0.02μm陶瓷图片膜筛选nm级硅顆粒，通量相对稳定在80LMH。 MVR减压蒸馏器 ：浓缩提炼高盐废水处理，沉淀出Na₂SO₄副服务，水使用率超90%。 之后视觉效果 总硅从1500mg/L减少为5mg/L以上 砷含量从0.8mg/L下降0.01mg/L 平台无结渣正常运行高出2年 历年出售磷酸钠晶胞约800吨